ȸ»ç¸í : ³ª³ëÈÀÎÅ×Å©(ÁÖ)
ºÐ¾ß : ÀÇ·á, Á¤¹Ð ¹× °úÇбâ±â
ȨÆäÀÌÁöÁÖ¼Ò : www.nanofine.co.kr
ȸ»çÁÖ¼Ò : °æ±âµµ ¿ëÀνà ±âÈﱸ Èï´ö1·Î 13, Ÿ¿öµ¿ 22Ãþ 12È£
ÀüȹøÈ£ : 031-340-3581
ȸ»ç ¼Ò°³
- ÀϺ» Hitachi High-Tech Science»ç Áý¼Ó À̿ºö ÀåÄ¡(FIB : Focused Ion Beam System)ÀÇ Çѱ¹ ´ë¸®Á¡À¸·Î ¿µ¾÷ ¹× ¼³Ä¡ À¯Áöº¸¼ö, °ü·Ã±â¼ú Áö¿ø ¾÷¹«¸¦ ¼öÇà
- ÃÖ±Ù ³ª³ëÅ×Å©³î·ÎÁöÀÇ ±Þ¼ÓÇÑ ¹ßÀü°ú ÇÔ²² ºÎ°¢µÇ°í ÀÖ´Â À̿ºö Àåü¸¦ ÃÖ°íÀÇ »ç¾çÀ¸·Î °ø±Þ
Á¦Ç° ¼Ò°³(SIR 7000 FIB)
- ¼öÁ¤ Á¤¹Ðµµ°¡ ±âÁ¸ÀÇ 15 nm(3¥ò)¿¡¼ 10 nm(3¥ò)·Î Çâ»ó
- ½ÅÇü Ion Beam ±¤ÇаèÀÇ Ã¤¿ë¿¡ ÀÇÇØ Ion Beam Á¶»çÀ§Ä¡ÀÇ ¾ÈÁ¤¼ºÀÌ Çâ»ó
- BeamÀ» ±Ø¹Ì¼¼ÇÏ°Ô ÀÎÃâ½ÃÄÑ ¹Ì¼¼ÇÑ °áÇÔ Çü»óµµ ¼¼ºÎÀûÀ¸·Î °üÂû, Defect¼öÁ¤ÀÌ ÈξÀ ¿ëÀÌ
- ±×¸®°í Chamber Unit¿¡ Ç׿ ½Ã½ºÅÛÀ» žÀçÇÏ¿© ¿Âµµ º¯È¸¦ÃÖ¼ÒȽÃÄÑ ¿Âµµ·Î ÀÎÇÑ Drift¸¦ Àý°¨
- ¹ÝµµÃ¼ Lay Out ¼³°è¿¡ ÀÌ¿ëµÇ´Â EBÀÇ CAD Data·ÎºÎÅÍ Defect À§Ä¡ÀÇ Á¤»óÀûÀÎ PatternÀ» ÃßÃâÇÏ¿© °áÇÔ À§Ä¡¿¡
Overlap½ÃÅ´À¸·Î Á¤»óÀûÀÎ Pattern¿¡ °¡±î¿î Çü»óÀ¸·Î ¼öÁ¤
- ƯÈ÷ OPC µîÀÇ º¹ÀâÇÑ Çü»óÀ» ¼öÁ¤ÇÒ ¶§¿¡ º¸´Ù Á¤»óÀûÀÎ Pattern¿¡ °¡±î¿î Çü»óÀ¸·Î ¼öÁ¤
- Photo Mask¿ë SMIF¹Ý¼Û SystemÀ» ä¿ëÇÏ¿´½À´Ï´Ù. SMIF Pod¿¡ ÀÇÇØ ¿Å°ÜÁ® ¿Â Photo Mask¸¦ Cleanµµ°¡ ³ôÀº ¹Ý¼Û
±â±¸¸¦ ÅëÇؼ Chamber³»¿¡ ¹Ý¼ÛÇÒ ¼ö°¡ Àֱ⠶§¹®¿¡ Photo Mask¿¡ÀÇ Particle(¹Ì¼¼ÇÑ ¿À¿°¹°)ÀÇ ºÎÂø ¹æÁö °¡´É
|